中国进口日本半导体设备有哪些

中国进口日本半导体设备有曝光机，离子注入机，等离子刻蚀机，薄膜沉积机。

1、曝光机：用于半导体制造中的光刻工艺，将光阻层图案投射到硅片上。

2、离子注入机：用于半导体制造中的掺杂工艺，将杂质原子注入到硅片上，改变硅片电学性质。

3、等离子刻蚀机：用于半导体制造中的刻蚀工艺，将光刻后的图案刻蚀到硅片上。

4、薄膜沉积机：用于半导体制造中的薄膜制备工艺，将金属或者氧化物等材料沉积到硅片表面。