平面双面抛光机的应用和特点？

海德研磨与您分享平面双面抛光机应用和特点

该机主要用于水晶玻璃、手机玻璃屏、光学玻璃、晶体、陶瓷、电子材料、硅、镁、计算机磁盘、活塞环、陶瓷硬质合金密封件、钨钢片、铵铁硼、铁氧体、铌酸锂、热敏电阻等金属及非金属硬脆材料或异形件的双平面精密研磨或抛光。

平面双面抛光机特点：

l、采用日本气动元件，分段精密加压控制，适合粗磨、中磨、精磨、精抛等工艺要求。

2、采用日本进口主轴：确保机床的精密性及耐用性。

3、上磨盘快升、快降、缓升、缓降集中于一个手柄，操作更方便。

4、独特的安全锁紧机构，防止意外断气，断电而“掉盘”伤人的意外发生。

5、独特的上盘自动浮动定位装置，减少了错盘，对盘的麻烦。

6、齿圈及挡水盘半自动升降系统，既方便取放工件及啮合齿轮，又满足改变游轮啮合高低位置的要求。

以上是海德平面双面研磨机的应用及特点，希望对您有帮助。