等离子体发生器的应用

高频等离子体炬在工业中已有多方面的应用，特别是在等离子体化工、冶金和光学材料提纯等方面。它还可制备超导材料，如用氢高频等离子体还原钒－硅（或钒－锗），铌－铝（或铌－锗）的氯化物蒸气以制备超导材料。中国冶金、采矿企业中需处理的钛矿石、含钒矿渣、磷矿石以及工业难熔废料含稀有材料的矿渣很多，采用高频等离子体炬是颇有前途的冶炼手段，可从中炼出有用的金属和稀有元素。

高频等离子体发生器的功率输出范围为0.5～1兆瓦，效率为50%～75%，放电室中心温度一般约高达7000～10000开。

低气压等离子体发生器一种低气压气体放电装置，一般由三部分组成：产生等离子体的电源、放电室、抽真空系统和工作气（或反应气）供给系统。通常有四类：静态放电装置（图5之a）、高压电晕放电装置(图5之b)、高频（射频）放电装置（有3种类型，图5之c）和微波放电装置（图5之d）。把被处理的固体表面或需要聚合膜层的基体表面置于放电环境中，由等离子体处理。由于低气压等离子体为冷等离子体，当气压为 133～13.3帕左右时，电子温度高达10000开，而气体温度只有300开，既不致烧坏基体，又有足够能量进行表面处理。低气压等离子体发生器已日益广泛应用于等离子体聚合、制备薄膜、刻蚀、清洗等表面处理工艺中。成功的例子如：在半导体制作工艺中，采用氟里昂等离子体干腐蚀，用离子镀法在金属表面生成氮化钛膜等。70年代以来，低气压等离子体对非金属固体（如玻璃、纺织品、塑料等）的表面处理及改性技术也有迅速发展。