化学镀镍的光亮剂和稳定剂是什么原料配制的？
采用镀镍光亮剂中间体目前是光亮剂生产的主要方式。20世纪90年代，德国巴斯夫公司电镀镍中间体开始进入中国市场，在取得高额利润的同时，也带动了国内中间体制造业的发展。国内已武汉风帆、天津天海、广州达志、江苏梦得、河北金日、宁波明日等代表的中间体生产及销售企业，不断完善，发展，产品不断升级换代，满足了市场的需求，同时也促进了市场竞争的激烈性。在电镀生产竞争日益增强的今天，掌握最新技术，降低生产成本是每个企业最有效途径。学习掌握运用，光亮剂的复配技术，是提高电镀质量，降低生产成本的有效捷径。光亮剂是用多种中间体配制而成的，了解认识这些中间体的作用机理，对中间体进行科学合理的复配，决定了光亮剂的质量。笔者近年通过到“中间体”生产单位学习请教，现场配制测试等形式对光亮剂中间体不间断的进行了研究，整理出大国内部份生产中间体厂家的产品，并选用了十几种中间体做了镀镍光亮剂的配制，并在一些电镀厂投入使用，取得了认同。现讨论、介绍如下：
1 镀镍中间体光亮镍中间体分为第一类和第二类两种。
1.1 第一类光亮镍中间体
主要起消除镀层内应力，增加延展性，提高低电位分布能力，抗杂等作用，品种主要有：
BSI 糖精 应力消除剂 柔软剂
BBI 双苯磺酰亚胺 可部份取代糖精，起柔软，整平抗杂增白作用。
ALS 丙烯基磺酸钠 辅助光亮剂，提高金属分布能力及延展性。
ASNA 不饱和烯烃磺化物 辅助光剂，具有良好的分散能力，防止针孔及减少主光剂消耗。
MHEE 不饱和脂肪酸衍生物，辅助光剂与BSI结合组成基本光剂，中区走位剂，与HPSS组配使用，具有卓越的低区分散能力。
MSEE 不饱和脂肪酸酯的磺化物，辅助光剂，与BSI等配合使用可提高分散能力，与吡啶衍生物和丙炔醇衍生物配合使用可提高低区的整平性。
UAS 不饱和烷基磺酸钠 走位剂 辅助光亮剂
SPS 羧基化合物磺酸钠 走位剂 辅助光亮剂
PESS 丙炔嗡盐 镍强光亮低电位走位剂
MOSS 丁炔嗡盐 镍白亮低电位走位剂
EHS 增加镀层延展性，提高镀液分散能力，增加镍镀层白亮度。
1.2 第二类光亮镍中间体
主要起增强阴极极化，提高光亮填平长效等作用。主要品种有：
DEP 二乙基丙炔胺 强整平剂 光亮剂。
MPA 二甲基丙炔胺 强整平剂 光亮剂。
PABS 二乙基丙炔胺甲酸盐 整平剂 光亮剂。
PPS 双羟基丙烷丁炔醚 强整平剂 光亮剂（在高电流密度区特佳）
PPS-OH 吡啶-2-羟基丙磺酸钠盐 高整平剂（在高中电流密度区特佳）
PA 丙炔醇 整平剂 光亮剂
PAP 丙氧化丙炔醇 整平剂 光亮剂
PME 乙氧化丙炔醇 整平剂 光亮剂
POG 甘油单丙炔醚 整平剂 光亮剂
PDA 丙炔基二乙胺甲酸盐 整平剂 光亮剂
PHE 2-丙炔基2羟烷基醚 整平剂 光亮剂
POPS 磺基丙炔醚钠盐 中低区填平剂 辅光剂
POPDH 炔丙基氧化羟基丙烷化合物 同炔属醇衍生物，搭配使用，协同出光，加强整平，提高低电流区填平能力
BOZ 1.4丁炔二醇，长效光亮剂
BEO 乙氧化丁炔二醇，长效光亮剂，弱整平剂。
BMP 丙氧化丁炔二醇，长效光亮剂 弱弱整平剂。
HBE 4-羟基-2-丁炔基-2羟烷基醚 长效光亮剂
HD-M 二甲基已炔二醇 光亮剂（可作半光亮镍，亦可作光亮镍光亮剂中间体）
HD-N 半光亮镍中间体 促使镀层柔软
TCA 水合三氯乙醚 半光亮剂 柔软剂
1.3 其它中间体
包括润湿剂、除杂剂、掩蔽剂等。
DC-EHS 二乙基已基硫酸钠，镍低泡润湿剂适合于空气搅拌。
A-BP 磺基丁二酸酯钠盐，镍低泡润湿剂适合于空气搅拌。
A-MP 磺基丁二酸二乙酯钠盐，镍低泡润湿剂，适合于空气搅拌。
A-YP 磺基丁二酸二戊酯钠盐，镍低泡润湿剂，适合空气搅拌。
DRO 聚氧乙烯烷基酚醚硫酸盐 镍高泡润湿剂，适合于阴极移动。
LRO 高泡润湿剂，适合于阴极移动，不发灰，不起雾。
PS 丙炔磺酸钠 低区光亮剂 填平剂杂质容忍剂
VS 烯已基磺酸钠 走位剂 抗杂剂
HPSS 有机多硫化合物 走位剂 抗杂剂
ATP 硫脲类化合物 提高低电流区遮盖能力，杂质容忍剂。
ATPN 羧乙基异硫脲嗡甜菜碱 走位剂 抗杂剂
IUP 3-异硫脲基酸盐 走位剂 抗杂剂
ALO3 炔醇基磺酸钠 走位剂 抗杂剂
SSO3 吡啶羟基丙烷磺酸钠，提高低电位区遮盖能力，杂质容忍剂。
US 羧丙基异硫脲钠盐 走位剂 抗杂剂
2 镀镍光亮剂特点及类型2.1 光亮剂特点
高品质的主光剂应具备以下特点：
1) 消耗稳定，分解产物少。
2) 低电位走位佳，分散性能好。
3) 应力小，镀层无脆性。
4) 镀层光泽一致，厚薄均匀。
5) 出光速度较快，填平能力好，镀层清晰。
6) 抗杂能力强，提高容忍度。
2.2 光亮剂分类
根据镀镍中间体的不同性能，光亮镍添加剂可分为主光剂、辅助剂两大类。
主光剂主要起光亮、整平作用，以第二类中间体为主。辅光剂主要是第一类中间体，在镀槽起增加阴极极化，光亮、整平等作用。
辅助剂：协助主光剂正常发挥，将主光剂不足之处进行弥补。以第一类中间体为主进行搭配。
辅助剂按使用性能，可分为以下几种：
1）开缸剂：以初级光亮剂，柔软，走位，抗杂剂等成份组成应用较多，一般用以弥补主光剂不足之处。
2）柔软剂：提高镀层延展性走位，起抵消内应力作用。
3）走位剂：帮助低电位施镀，提高金属分散性能。
4）除杂剂：由多种除杂剂中间体配制而成，能除去有机或无机杂质，可按系统分为，除铁、除铜、除锌剂等，有利于低区走位。
5）润湿剂：分为两种，适用于空气搅拌的称为低泡润湿剂；适用于阴极移动的称为高泡润湿剂。主要起消除镀层针孔，降低镀层表面张力，使氢气泡不滞留于工作表面的作用。
配制第四代镀镍光亮剂可参考下述原则：至少有一种吡啶类化合物，如PPS或PPS-OH；至少一种丙炔类化合物如DEP、PAP、PME等；至少一种低电流密度区光亮整平中间体，如PS、PESS、PP-ESE、BP-DESE；至少一种低区走位，杂质容忍物质，如ATP、VS、ALS等。
3 镀镍光亮剂的配方对要求电镀镍的产品，不同的产品所要求的色泽会不一样，表面的光亮度不一样，光亮剂要依产品要求而有所变化，否则就达不到产品质量标准。
3.1普通型电镀亮镍
A、镀镍主光剂
开缸量 0.3-0.5ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：PPS-OH PDA BEO
次要成份： PS、PHE、ATP
B、镀镍调整剂（开缸剂柔软剂 走位剂）
开缸量 8-10ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：BSI ALS
次要成份：PPS-OH 、PDA 、PS ALO3
3.2高整平型镀镍光亮剂配方
A、镀镍主光剂
开缸量 0.3-0.5ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：PPS-OH PDA POG
次要成份： PS、HBE、ATPN
B、镀镍调整剂（开缸剂柔软剂 走位剂）
开缸量 8-10ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：BSI ALS PPS-OH
次要成份：PDA 、PS、 POG
3.3高走位剂型镀镍光亮剂配方
A、镀镍光亮剂
开缸量 0.3-0.5ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：PPS-OH PME DEP
次要成份： PS、ATPN、POPDH
B、镀镍调整剂（开缸剂柔软剂 走位剂）
开缸量 8-10ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：BSI SAS ATPN
次要成份：PPS-OH、PME、POPDH、PS
3.4乌亮型镀镍光亮剂配方
A、镀镍光亮剂
开缸量 0.3-0.5ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：MPA PPS-OH PDA
次要成份： BEO、PS、SSO3
B、镀镍调整剂（开缸剂柔软剂 走位剂）
开缸量 8-10ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：BSI ALS SSO3
次要成份：PPS-OH、PDA、PS
3.5白亮型光亮剂配方
A、镀镍光亮剂
开缸量 0.3-0.5ml/L 消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：PPS-OH PESS DEP
次要成份：PHE、PDA、POG
B、镀镍调整剂（开缸剂柔软剂 走位剂）
开缸量 8-10ml/L消耗量100-150 ml/K.A.H
主要成份：BSI BBI ATPN
次要成份：PPS-OH、PDA、SAS
3.6镀镍除杂水
用量 1-2ml/L
主要成份：PN
次要成份： US
3.7镀镍润湿剂
A、低泡湿剂
用量 1-3ml/L
主要成份：A-BP
次要成份： DC-EHS
B、高泡湿剂
用量 1-3ml/L
主要成份：DRO
4 结语用中间体配制镀镍光亮剂需要了解各种中间体的作用，用量、消耗量。各成分的开缸用量与千安培·小时消耗量往往比例不同。因此需经生产验证。并认真作好纪录，不断调整成分比例，使其完善。这样才能得到出光速度快，整平性能好，光亮剂各组分同步消耗的科学合理的镀镍光亮剂配方。
以上是笔者之拙作，愿与同仁合作***同提高